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主旨: |
半导体故障分析技术研讨会_国立成功大学微奈米科技研究中心 |
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日期: |
2017/8/9 |
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內容: |
在奈米制程无尘室制备样品时，手动切割常造成样品的污染。如何降低无尘室样品制备的污染，在半导体故障分析技术中，是一重要、须解决之课题。本次技术研讨会将邀请在半导体的故障分析领域超过20年经验，且连续六年担任ISTFA (国际测试和故障分析研讨会)主席的Efrat Moyal女士分享在半导体故障分析领域的新技术，另外国立成功大学微奈米科技研究中心的技术长亦会发表中心在半导体制程和半导体检测分析的最新研发成果，欢迎各界先进莅临，踊跃报名参加。
指导单位：科技部产学及园区业务司主办单位：国立成功大学微奈米科技研究中心 微奈米制程与检测产学技术合作联盟 伟技股份有限公司研讨会时间：2017年8月24日（星期四）13：30 - 17：00研讨会地点：国立成功大学微奈米科技研究中心9064会议室 位置图联络人：(03)5630509 Judy 林小姐/ Joyce 徐小姐报名方式：免费报名。请填写下方报名表。报名网址：https://goo.gl/forms/eKKRS82edwZ5PUSU2
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